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事業紹介
半導体・その他装置
有機金属化学的気相成長装置
減圧式化学的気相成長装置
横型酸化・拡散炉システム
半導体成膜用液体材料供給器
ライフタイムプロファイラ
プラズマ・イオンプレーティング成膜装置
横型酸化・拡散炉システム
シリコンウエハ上に酸化膜、
拡散層を形成させます。
P型、N型の不純物拡散等の熱処理プロセスに温度制御、マテハン技術を駆使した横型酸化、拡散システムです。
実験用から量産機まで、お客様のあらゆるニーズにお応え致します。
ウエハ サイズ □150×157 φ8" φ6" φ5" φ4"
拡散炉 型式 HD3002A HD3003A HD2004A HD2003A
ヒータ仕様 常用/最高
仕様温度
(℃)
800℃/
1050℃
1100℃/
1200℃
1250℃/
1250℃
1250℃/
1250℃
均熱長
(o)
1100 900 900 900
温度制御 3ゾーン 3ゾーン 3ゾーン 3ゾーン
外形寸法 W×D×H 2320×900
×2325
2320×900
×2480
2180×900
×2225
2180×900
×2225
炉数(段) 2 3 4 3
処理枚数/1チューブ 240枚 60枚 125枚 125枚
ユーティリティー 電源 AC200V 140KVA AC440V 160KVA AC200V 135KVA AC200V 135KVA
冷却水 3L/min/1ヒータ     12L/min/ラジエタ
炉口
スカベンジャ
型式 YH1102A YH1054E YH1054F YH1054B YH1054C YH1054D
材質 SUS304、316-内面研磨
ユーティリティー 排 気 6L/min/1ヒータ
冷却水 6〜8L/min/1ヒータ  3kg/cu
クリーンベンチ 型式 フロー
方向
ホリゾンタル YH1039F YH1039B YH1039A YH1039E
ダウン YH1090A
性能(集塵効率) 0.3μm粒子径にて99.97%、風速0.5m/s
ユーティリティー 電 源 100V 3KVA
Air−Vacuum Air:1/4”  Vacuum:1/4”(Swegrock)
自動搬送装置
コントローラ
型式 ウエハトランスファー
ボートエレベータ YH1135A
ソフトローダ SL5300B SL8300B SL6300A SL5300A
カンチレバー SL4200D
ボートローダ YH1036A YH1036A
トレイステイション YH1035B YH1086A
オート ドア YH1045F YH1045G YH1045H YH1045B YH1045B YH1045E
オート キャップ YH1055E YH1055H YH1055C YH1055C YH1055D
ソース
キャビネット
型式 YH1079B YH1079C YH1079A
ユーティリティー 電源 AC100V 3KVA
排気 2L/min
冷却水 無し
ダイレクト
スカベンジャ
型式 YH1084B YH1084E
材質 SUS304、316-内面研磨
ユーティリティー 排気 6L/min
冷却水 無し
ガス
システム
型式 YH1093A05 YH1039A08
ガス N2-O2-POCL3 N2−O2
MFC STEC OEC−HEMMI
配管 SUS316L−EP  テフロン
特殊仕様
オプション
TC−ストレージボックス *1 *1 *1 *1 *1 *1
SL−スピード設定器 *1 *1 *1 *1 *1 *1
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